Personne ne réalise ce que la Chine vient de créer

L'émergence de machines de lithographie chinoises, bien que largement surestimée par les marchés, marque une étape stratégique dans la substitution technologique. Si le monopole d'ASML sur l'EUV reste intact, les avancées chinoises sur le DUV, portées par des entités comme Shanghai Aishenya, illustrent une consolidation des compétences nationales face aux sanctions. Les restrictions à l'exportation, notamment via le projet MATCH Act, risquent paradoxalement de favoriser l'industrie chinoise en créant un marché captif : en limitant l'accès au support et à la maintenance des équipements ASML, Washington pousse les usines chinoises à adopter des solutions domestiques, même moins performantes. Le véritable défi pour Pékin demeure le passage à l'échelle industrielle et la fiabilité, tandis que la stratégie américaine vise avant tout à ralentir le progrès chinois pour préserver l'avance technologique occidentale sur les puces de pointe.