EP140 - AI 半導體的隱形王者：ASML | 專訪《造光者》作者 Marc Hijink

ASML 的 EUV 微影設備是製造先進 AI 晶片的關鍵，該公司透過與供應商的緊密合作，建立起極高的技術門檻與壟斷地位。半導體產能擴張受限於複雜的供應鏈與人才需求，難以在短期內因應 AI 算力需求的爆發。針對中國半導體產業，儘管其試圖透過「邏輯摺疊」等技術繞過 EUV 限制，但因缺乏 ASML 長期累積的技術經驗與文化底蘊，短期內難以實現突破。半導體製造環境極度敏感，如亞利桑那州晶圓廠曾因鄰近酪農場的氣體影響良率，凸顯了先進製程在物理與經濟層面上的高度精密要求與脆弱性。