本期访谈的核心是 ASML 公司 CEO Chris Fouque 对 EUV 光刻机技术的解读以及 ASML 公司独特的企业文化和领导力风格。访谈首先解释了 EUV 光刻机的原理和制造的巨大挑战,包括光源的产生和光学系统。接着,Chris 分享了 ASML 在 EUV 技术路线选择上的决策过程,以及与蔡司的长期合作模式。最后,他探讨了摩尔定律的演变、人工智能对半导体行业的影响,以及他对领导力、团队文化和职业发展的看法,例如他强调了 “真实” 和 “关注细节” 的重要性,并建议年轻人专注于寻找真正热爱的事业。 ASML 的成功案例为科技公司提供了宝贵的经验,也为中国半导体产业的发展提供了借鉴。
Sign in to continue reading, translating and more.
Continue